重复投影曝光机，集成电路图的线宽最小也达到05，这可以说非常约束着芯片行业的发展。

如果光刻机更进一步，那么，半导体公司们，就能够设计更先进的芯片，可以在一块小小的芯片刻下更多的集成电路，性能将产生翻天覆地的变化。

苏城有更先进的光刻机技术，但是现在不是拿出来的时候，要循序渐进。

所以，将80年代出现的步进扫描投影曝光机拿出来，是最好的选择。

“苏先生，你这是从哪里得来的资料据我所知，国际上那些光刻机公司都在往这方面研究，特别是svg公司，据说有了不错的进展，但是离将它研究出来还要很长一段时间吧”张中谋惊讶地问道。

他作为半导体行业的大佬，自然知道，步进扫描投影曝光机代表着什么。

所以，张中谋有些不淡定了。

既然甲骨文计算机都能搞出来，他并没有怀疑苏城会说谎。请牢记收藏,网址 最新最快无防盗免费阅读