李和说话的速度。李和洋洋洒洒的说了一个多小时，根本没给两个人插话的机会。

“cdte沉积层的形成是亚碲酸还原的延续，其电结晶成核机理因电位阶跃值、沉积温度及溶液ph值的改变而由hteo扩散控制的三维瞬时成核转变为二维瞬时成核机理;对hgcdte，其电沉积过程的动力学步骤可设想为”。

等到李和说完，两个人才难受的甩甩胳膊。

两个人刚想提问一些问题，却都不知道怎么提问，因为好多涉及到高分子化学、物化、分析内容他俩也听不懂，听不懂怎么问？

两个人尴尬了。

李和见两个人的记录本上把高分子式都写错了，接过本子，微微一笑，善解人意的帮着修改了。

两个人低着头，羞愧难当。

内心的呐喊估计只有自己才能听得见了，老子可是留苏高材生！

李和见他俩匆匆离开的身影，才得意的一笑，不给点厉害瞧瞧，不知道马王爷几只眼，每次来找他，问这问那，问的他有点烦了。

也是有点骄傲的，师兄只能帮你到这了！

希望这篇论文，可以帮助国内在本征硅的研究课题上提升五六年的进度吧。

(未完待续。)